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滑动PECVD系统炉的低温高效的特点使其在光伏、半导体、柔性电子等领域不可替代,与传统CVD相比,PECVD的显著优势是可在较低温度下完成高质量薄膜沉积,适用于不耐高温的基材。
更新时间:2025-12-22
产品型号:OYS-1200C-II-60-PECVD
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CVD系统管式炉是一种重要的材料制备设备,广泛应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之中。它主要用于在固态基材上沉积一层薄膜,其组成部分包括高温真空管式炉、气路和真空系统。
更新时间:2025-12-23
产品型号:OYS-1200C-Ⅲ
浏览量:1287
管式炉搭配质子(浮子)供气系统真空系统和分子泵机组,形成高真空CVD系统。CVD系统管式炉是一种重要的材料制备设备,广泛应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之中。它主要用于在固态基材上沉积一层薄膜,其组成部分包括高温真空管式炉、气路和真空系统。
更新时间:2025-05-13
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