将CVD系统中的真空系统、热处理系统、供气系统集成在一个控制面板上，通过触摸屏操作控制实现联动自动化。设备热处理最高温度1200℃，连续使用温度1100℃，三路供气），真空度-0.1Mpa,是高校、科研所及各大高企实验室做化学气相沉积的理想设备之一

热处理系统

主要参数

Ø 电源：220V 50/60HZ

Ø 额定功率：1.6KW

Ø 工作温度：1200℃（＜0.5 hour）

Ø 连续工作温度：1100 ℃

Ø 推荐升温速率：≤10℃/min

Ø 加热区长度：300mm；

Ø 热电偶：K型

Ø 加热元件：铁铬铝合金丝0Cr21Al6Nb

炉体结构

Ø 加热系统为高温立式炉

Ø 采用双层壳体结构并带有风冷系统；

Ø 炉膛材料采用高纯氧化铝纤维，能减少能量损失；炉膛安装好后，内部也会重新涂有高纯氧化铝涂层提高反射率及设备的加热效率同时也延长了仪器的使用寿命；

Ø 设备带氧浓度分析探测仪，用于排查通入易燃易爆气体是可能存在的安全隐患；

法兰系统

Ø 上端法兰改装成三个内径φ6.35mm的进气口及其他改装口；

Ø 底座法兰有电动升降机构完成对接密封，底座法兰侧面带KF25真空接口配手动真空挡板阀，带KF16数显真空计接口，水冷循环系统接口等其他改装口；

Ø 法兰底座可固定安装载物台，用于盛放样品材料

炉管

Ø 炉管为高纯石英管材质；

Ø 炉管尺寸：φ100*700mm

Ø 设备使用前请检查法兰气密性、固定并对准载物台与炉管

温控系统

Ø 采用7英寸触控智能微电脑PID温控仪表，实现联动控制集成一体；

Ø SSR控制，PID参数自整定功能，超温报警功能；

Ø 可编程15组30个时段,自动升温、自动保温、自动停止，可满足连续恒温和控温要求，电子元器件保证长期稳定性和可靠性；

Ø 控制精度：±1℃

三通道混气系统

Ø 电压：AC 208-240V 50/60HZ

Ø 流量范围：0-500 SCCM  （氩气，甲烷，二氧化碳标定气体）

Ø 精度：±1.5% FS

Ø 两种混气模式联动:氩气和甲烷进入混气罐；氩气和二氧化碳进入混气罐；一组通气另一组不通气；可来回调换进气使用；

Ø 做自动控制需用电磁阀控制进气和出气量；

真空系统

Ø 要求在1000℃左右高温情况下抽真空达到1X10-1Pa;

Ø VRD-8

Ø 2L/S

Ø AC220V   50/60HZ

Ø 极限真空度可达5X10-2Pa(不带负载）

Ø 如需做自动控制需要自动控制电器配件；（加够）

认证标准及核心零部件

CE、UL等认证，核心零部件有ABB、欧米茄、东明等

售后

Ø 质保期一年，终身维护，24小时在线服务；

Ø 特别提示：耗材部分如加热元件、炉管、坩埚等不包括在内；

Ø 因使用腐蚀性气体造成的损害不在保修范围内。

注意事项

Ø 炉管内气压不得高于0.02MPA；

Ø 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为 0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全；

Ø 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生(如炉 管破裂，法兰飞出等)；

Ø 气体的流量应限制在<200 SCCM(或200ml/ min)