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将CVD系统中的真空系统、热处理系统、供气系统集成在一个控制面板上，通过触摸屏操作控制实现联动自动化。设备热处理最高温度1200℃，连续使用温度1100℃，三路供气），真空度-0.1Mpa,是高校、科研所及各大高企实验室做化学气相沉积的理想设备之一
更新时间：2026-03-09
产品型号：CVD系统炉
浏览量：21
JXB-12是一套低真空机组，其极限真空度为10-3torr。真空系统内部安装有双旋机械泵TRP-12配套使用，其接口为KF25接含有电阻真空计和连接管道接头等。
更新时间：2026-03-05产品型号：JXB-12浏览量：1129
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