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将CVD系统中的真空系统、热处理系统、供气系统集成在一个控制面板上,通过触摸屏操作控制实现联动自动化。设备热处理最高温度1200℃,连续使用温度1100℃,三路供气),真空度-0.1Mpa,是高校、科研所及各大高企实验室做化学气相沉积的理想设备之一
更新时间:2026-03-09
产品型号:CVD系统炉
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浮子供气系统是一种利用浮子作为控制元件来调节气体供应或压力的装置,常见于需要气液分离、液位控制或压力稳定的工业应用中。
更新时间:2026-03-04
产品型号:GYS-2F/3F/4F
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JXB-12是一套低真空机组,其极限真空度为10-3torr。真空系统内部安装有双旋机械泵TRP-12配套使用,其接口为KF25接含有电阻真空计和连接管道接头等。
更新时间:2026-03-05
产品型号:JXB-12
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GYS-2Z/3Z/4Z/5Z质子供气系统是一款低成本的流量计控制系统,其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里,移动柜最大可以承重1000Lbs,与本公司大多数管式炉配套使用时,可将管式炉置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状本示都集中在一个7寸的LCD触摸屏上,便于操控的同时,可实时查看气体流量曲线和数据。此款设备广泛应用于材料接种CVD实验和各种材料的退火实验。
更新时间:2026-03-04
产品型号:GYS-2Z/3Z/4Z/5Z
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