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更新时间：2026-03-06
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自动化CVD系统：集成联动，助力化学气相沉积研究
一、系统概述
本系统为一款集成化CVD设备，热处理温度可达1200℃（连续使用温度1100℃），适用于多种材料的沉积工艺研究。系统主要特点包括：
ü 三通道供气：支持多种气体组合（如需通入易燃易爆或腐蚀性气体，请提前沟通确认）
ü 高真空度：极限真空度可达5×10⁻² Pa（不带负载）
ü 自动化控制：触摸屏操作，实现热处理、混气、真空模块联动
二、 系统组成与技术参数
1. 热处理系统
名称 | 主要参数 |
|---|---|
电源 | 220V 50/60Hz |
额定功率 | 1.6kW |
工作温度 | 1200℃（＜0.5h） |
连续工作温度 | 1100℃ |
推荐升温速率 | ≤10℃/min |
加热区长度 | 300mm |
热电偶 | K型 |
加热元件 | 铁铬铝合金丝0Cr21Al6Nb |
炉体结构 | • 高温立式炉，双层壳体带风冷系统 • 炉膛采用高纯氧化铝纤维，内部涂覆高纯氧化铝涂层 • 内置氧浓度分析探测仪，排查易燃易爆气体安全隐患 |
炉管 | 高纯石英管，尺寸：φ100×700mm |
法兰系统 | • 上端法兰：三个φ6.35mm进气口 • 底座法兰：电动升降机构、KF25真空接口（带手动真空挡板阀）、KF16数显真空计接口、水冷循环系统接口 • 底座可固定载物台，用于放置样品
|
2. 温控系统
l 控制方式：7英寸触控智能微电脑PID温控仪表，联动控制集成
l 控制技术：SSR控制，PID参数自整定，超温报警
l 编程功能：可编程15组30个程序段，支持自动升温、保温和停止
l 控制精度：±1℃
3. 三通道混气系统
l 电源：AC208-240V 50/60Hz
l 流量范围：0-500 SCCM（以氩气、甲烷、二氧化碳为标定气体）（可选量程和气体标定）
l 控制精度：±1.5% FS
l 混气模式：支持氩气与甲烷、氩气与二氧化碳进入混气罐，两组气体可切换使用
4. 真空系统
l 真空泵型号：VRD-8 （可选配）
l 抽速：2L/S
l 电源：AC220V 50/60Hz
l 极限真空度：5×10⁻² Pa（不带负载）
l 自动控制：可增配自动控制电气配件
5. 认证标准与核心零部件
认证标准：符合CE、UL等认证要求核心零部件品牌：ABB、欧米茄、东明等
三、售后服务
① 质保期：一年（耗材除外）
② 维护服务：终身维护，24小时在线技术支持
特别提示：加热元件、炉管、坩埚等耗材不在质保范围内；因使用腐蚀性气体造成的损害不予保修
四、使用注意事项
为确保设备安全稳定运行，请严格遵守以下要求：
Ø 气压限制：采用石英炉管时，炉管内气压不得高于0.02MPa
Ø 气瓶配置：必须安装减压阀，建议选用量程为0.01-0.1MPa的减压阀，以保证气体通入精确性与安全性
Ø 加热操作：如需关闭气阀加热，必须实时观察压力表示数，若超过0.02MPa需立即打开泄气阀
Ø 流量控制：气体流量建议控制在≤200 SCCM（即200ml/min）以内
五、适用场景
自动化控制CVD系统适用于：
l 高校、科研院所的材料科学研究
l 企业实验室的薄膜制备与纳米结构生长实验
l 需要高真空度和多气体组合的化学气相沉积工艺
l 其集成化设计与自动化控制功能，有助于提升实验效率与数据重复性，是现代材料研究实验室的理想选择。
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